Новые возможности применения форвакуумных плазменных источников в технологических процессах электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов

Аннотация: Излагаются результаты применения форвакуумных плазменных электронных источников, полученные за последний год. К числу таких применений относятся: генерация пучковой плазмы в диэлектрической полости, испарение различных материалов с последующим осаждением покрытий, размерная обработка диэлектрических материалов.

Ключевые слова: плазменный электронный источник, форвакуум, пучковая плазма, диэлектрическая полость, испарение материалов, осаждение покрытий, электронно-лучевая фрезеровка

Библиография статьи:
Бурдовицин В. А. Новые возможности применения форвакуумных плазменных источников в технологических процессах электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов / В. А. Бурдовицин [и др.] // Доклады Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. – 2017. – Т. 20, № 3. – С. 70–75. DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-70-75