Новые возможности применения форвакуумных плазменных источников в технологических процессах электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов

Скачать текст статьи в формате PDF

Авторы: Бурдовицин В. А., Золотухин Д. Б., Зенин А. А., Окс Е. М., Тюньков А. В., Юшков Ю. Г.

Аннотация: Излагаются результаты применения форвакуумных плазменных электронных источников, полученные за последний год. К числу таких применений относятся: генерация пучковой плазмы в диэлектрической полости, испарение различных материалов с последующим осаждением покрытий, размерная обработка диэлектрических материалов.

Ключевые слова: электронно-лучевая фрезеровка, осаждение покрытий, испарение материалов, диэлектрическая полость, пучковая плазма, форвакуум, плазменный электронный источник

Библиография статьи: Бурдовицин В. А. Новые возможности применения форвакуумных плазменных источников в технологических процессах электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов / В. А. Бурдовицин [и др.] // Доклады ТУСУР. – 2017. – Т. 20, № 3. – С. 70–75. DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-70-75

Масленников Виктор Николаевич

Ответственный секретарь редакции журнала

  634050, г. Томск, пр. Ленина, 40, МК, каб. 310/2

  (3822) 51-21-21, внутр.: 1460

  vnmas@tusur.ru