Технология формирования покрытий на светодиодных гетероструктурах методом магнетронного распыления на примере нанесения пленок ITO

Скачать текст статьи в формате PDF

Авторы: Жидик Ю. С., Троян П. Е.

Аннотация: Приводится изучение эффективности отвода заряженных частиц от подложки и растущей плёнки ITO, наносимой методом реактивного магнетронного распыления, используя различные отклоняющие системы. Установлено, что применение магнитной отводящей системы позволило уменьшить энергию электронов, достигающих подложки в пять раз, а концентрацию заряженных частиц – в 13 раз. При этом показано, что плёнки ITO, напыляемые при таких условиях, растут без дефектов.

Ключевые слова: ito, магнетронное распыление, электронная бомбардировка подложки

Библиография статьи: Жидик Ю. С. Технология формирования покрытий на светодиодных гетероструктурах методом магнетронного распыления на примере нанесения пленок ITO / Ю. С. Жидик, П. Е. Троян // Доклады ТУСУР. – 2014. – № 4(34). – С. 52–55.

Адрес редакции

  634050, г. Томск, пр. Ленина, 40, МК, каб. 310/2

  (3822) 701-582, внутр.: 1456

  journal@tusur.ru

 

Масленников Виктор Николаевич

Ответственный секретарь редакции журнала

  634050, г. Томск, пр. Ленина, 40, МК, каб. 310/2

  (3822) 51-21-21, внутр.: 1460

  vnmas@tusur.ru