Ионно-плазменное травление, инициированное электронным пучком

Аннотация: Представлены результаты травления образца кварца потоком энергичных ионов из пучковой плазмы. Плазма генерировалась в диэлектрической колбе при инжекции в нее непрерывного электронного пучка. Процесс травления осуществлялся в среде аргона при давлении 2,7 Па. Энергия бомбардирующих ионов регулировалась падением напряжения на слое между границей плазмы и дном полости в результате ее зарядки электронами пучка. Электронный пучок был единственным источником генерации ионов и регулирования их энергии. Установлено, что скорость травления растет с ростом энергии электронного пучка вслед за увеличением абсолютной величины придонного падения напряжения.

Ключевые слова: травление диэлектриков, пучковая плазма, электронный источник с плазменным катодом, средний вакуум