Электрическая формовка и пробой тонкопленочных структур металл–диэлектрик–металл
DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-152-154
DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-152-154
Аннотация: На основании анализа экспериментальных и расчетных данных по процессам пробоя и формовки тонкопленочных диэлектриков установлены общие закономерности физических процессов и различия возникновения пробоя и электрической формовки тонкопленочных диэлектриков в структуре металл–диэлектрик–металл.
Ключевые слова: электрическая формовка, пробой, мдм-структура, аморфный диэлектрик, эмиссия
Авторы и правообладатели:
—
Библиография статьи:
Троян П. Е. Электрическая формовка и пробой тонкопленочных структур металл–диэлектрик–металл / П. Е. Троян, В. В. Каранский // Доклады Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. – 2017. – Т. 20, № 3. – С. 152–154. DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-152-154