Аннотация: Проведено исследование влияния режимов ТФЭ на морфологию поверхности эпитаксиальных плёнок CaF₂ на поверхности Si(100) в условиях наличия микронеровностей на исходной поверхности подложек Z(Si) = 3 нм. Предложен метод многостадийной ТФЭ для получения максимально гладкой поверхности CaF₂. Сделано предположение, что твердофазная эпитаксия является наиболее приемлемым способом получения максимально гладких пленок в случае резкой анизотропии свободной поверхностной энергии в материалах подложки и пленки.
Ключевые слова: млэ, асм, фторид кальция, кремний, морфология поверхности, твёрдо- фазная эпитаксия
Авторы и правообладатели:
—
Библиография статьи:
Величко А. А. Получение структур CaF₂/Si(100) методом твердофазной эпитаксии / А. А. Величко, В. А. Илюшин, Н. И. Филимонова // Доклады Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. – 2012. – № 1(25). – Ч. 1. – С. 47–51.