Ионно-плазменные методы получения наноструктур

DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-40-45

Скачать текст статьи в формате PDF

Аннотация: Приведены современные результаты деятельности и научно-технические разработки научной школы ТУСУРа, связанной с методами получения наноструктур по технологии ионно-плазменного осаждения и зародившейся под руководством Г.А. Воробьева в 1970 г. Приводятся результаты о выполненных исследованиях в этой области, а также сведения об их внедрении в производство изделий микроэлектроники в виде нанослоев различного назначения.

Ключевые слова: ионно-плазменное распыление, магнетронная распылительная система, пеннинговская распылительная система, диэлектрические, резистивные и проводящие наноструктуры

Библиография статьи:
Данилина Т. И. Ионно-плазменные методы получения наноструктур / Т. И. Данилина [и др.] // Доклады Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. – 2017. – Т. 20, № 3. – С. 40–45. DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-3-40-45

Авторы и правообладатели:

Адрес редакции

  634050, г. Томск, пр. Ленина, 40, МК, каб. 310/2

  (3822) 701-582, внутр.: 1456

  journal@tusur.ru