Формирование омического контакта к n-слою нитрида галлия с использованием предварительной ионной обработки

Скачать текст статьи в формате PDF

Авторы: Засухин Д. И., Минин О. Н., Викторова Е. А.

Аннотация: Представлены результаты измерения удельного контактного сопротивления к n-слою нитрида галлия системы металлов Ti/Al/Ni/Au. Исследовано влияние параметров предварительной ионной обработки поверхности, а именно скорость расхода газа и время процесса на значение удельного контактного сопротивления. Впервые получена зависимость удельного контактного сопротивления от температуры отжига после проведения ионной обработки поверхности нитрида галлия.

Ключевые слова: ионная обработка, омический контакт, нитрид галлия, светодиод

Библиография статьи: Засухин Д. И. Формирование омического контакта к n-слою нитрида галлия с использованием предварительной ионной обработки / Д. И. Засухин, О. Н. Минин, Е. А. Викторова // Доклады ТУСУР. – 2017. – Т. 20, № 2. – С. 43–45. DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-2-43-45

Масленников Виктор Николаевич

Ответственный секретарь редакции журнала

  пр. Ленина, 40, мк, каб. 310/2

  (3822) 51-21-21, внутр.: 1460

  vnmas@tusur.ru