Формирование омического контакта к n-слою нитрида галлия с использованием предварительной ионной обработки

Авторы: Засухин Д. И., Минин О. Н., Викторова Е. А.

Аннотация: Представлены результаты измерения удельного контактного сопротивления к n-слою нитрида галлия системы металлов Ti/Al/Ni/Au. Исследовано влияние параметров предварительной ионной обработки поверхности, а именно скорость расхода газа и время процесса на значение удельного контактного сопротивления. Впервые получена зависимость удельного контактного сопротивления от температуры отжига после проведения ионной обработки поверхности нитрида галлия.

Ключевые слова: светодиод, нитрид галлия, омический контакт, ионная обработка

Библиография статьи: Засухин Д. И. Формирование омического контакта к n-слою нитрида галлия с использованием предварительной ионной обработки / Д. И. Засухин, О. Н. Минин, Е. А. Викторова // Доклады ТУСУР. – 2017. – Т. 20, № 2. – С. 43–45. DOI: 10.21293/1818-0442-2017-20-2-43-45