Моделирование процессов травления микро- и наноструктур с использованием программного модуля «NEMO etching»

Авторы: Мухамадеев Р. А., Данилина Т. И.

Аннотация: Работа посвящена моделированию процессов травления микро- и наноструктур с использованием программного модуля «NEMO etching», который является собственной разработкой авторов. Рассмотрены основные модели травления в области микро- и наноэлектроники, а также микросистемной техники и их возможности. Представлены результаты моделирования жидкостного, ионного, реактивно-ионного травления, а также Bosch-процесса при различных параметрах технологического процесса. Данные моделирования проверены на соответствие с реальными экспериментами.

Ключевые слова: травление, моделирование, программный продукт, реактивное ионное травление, ионное травление, изотропное травление, bosch-процесс

Библиография статьи: Мухамадеев Р. А. Моделирование процессов травления микро- и наноструктур с использованием программного модуля «NEMO etching» / Р. А. Мухамадеев, Т. И. Данилина // Доклады ТУСУР. – 2014. – № 1(31). – С. 95–98.