Электронный источник с плазменным эмиттером для работы в режиме термически нагруженной разрядной камеры

Аннотация: Представлены результаты теоретических и экспериментальных исследований режимов работы источника электронов с плазменным эмиттером при наличии интенсивной тепловой нагрузки на элементы разрядной камеры. Показано, что наиболее уязвимым к воздействию температуры является постоянный магнит разрядной камеры. Описаны особенности конструирования электронных источников, эксплуатирующихся в условиях интенсивного воздействия тепловой нагрузки. Описано применение разработанного источника в технологии создания сверхпроводящих материалов по программе ИТЭР.

Ключевые слова: электронный источник с плазменным эмиттером, постоянный магнит, термическая нагрузка